SHIWEI是维高真空电子束蒸发镀膜仪是采用聚焦成束的电子束来加热蒸发源，使其蒸发并沉积在基片表面而形成薄膜，电子束蒸发镀膜仪特别适用于难熔金属及非金属材料，如SiO2，AL2O3，Al、Au、Ag、Ni、Ti、Cr、Pt等；是钙钛矿太阳能电池、OLED、锂电池、金属电极薄膜等科研实验和产业研发工艺生产专用设备，也广泛应用于纳米薄膜光电子器件制备及生产线前期工艺试验等。
SHIWEI是维光电是一家国家高新技术企业，围绕先进电子材料器件基础研究、科研创新和产业技术应用，研发材料器件工艺设备及光机电智能化装备。SHIWEI是维已经和清华北大、哈工大，武汉大学，复旦大学等众多高校，中科院物理所等科研院所、工矿企业取得合作。
一、设备主要技术参数
真空镀膜腔室
真空腔室尺寸Φ500mm×H630mm，立式圆柱形、前开门结构，材质为优质304不锈钢，所有焊缝连接采用氩弧自动焊接技术，内表面抛光，外表面进行电抛处理；
主要部件布局
底部：底板布置一台电子枪、配挡板；
侧部：预留CF35法兰2个；
侧后部为Φ250mm分子抽气口及真空测量(抽气管拐弯处)等；
侧开门：门中部设置Φ100mm观察窗及挡板；
充气阀位于腔室左下侧位置；
基片台
采用旋转基片台结构布局，旋转基片台：基片架变速马达驱动,转速0-25rpm。超高真空磁流体动密封，旋转基片台尺寸约为5英寸。基片架由电机带动旋转，速度可调可控。
掩膜板
配套高精度掩模板，可根据客户的要求定做1套高精度掩膜板；基片与掩模板的配合间隙为0；
电子束蒸发源
采用高可靠高稳定性电子束蒸发源
270°的电子束偏转角保证了发射源材料对膜层的无污染。
双向、快速的电子束扫描系统及扫描电路，避免了靶材的“扎坑”弊病。
精密的水路设计，保证电子枪温升小，可以长期稳定工作。
电子枪蒸发源坩埚工位为6穴位，有挡板装置。
功率8KVA，1套偏转扫描电源，1套电子枪灯丝电源。
真空获得及测量
真空获得系统采用高性能分子泵和大抽速前级泵
复合分子泵，抽速大、可靠性高。
前级采用直联旋片泵，抽速为12-14L/S；
GDQ-250,高真空气动挡板阀；
GDQ-40,旁路阀、前级阀；
Ф10mm气动放气阀1个。
真空测量采用数显复合真空计测量真空度，（两低一高），真空测量范围：105～10-5Pa。电阻规：105～10-1Pa，2个，电离规：10-1～10-5Pa,1个
真空密封
电子束蒸发镀膜仪真空密封：相对固定部分采用金属密封，可动部分采用氟橡胶+超高真空磁流体轴动密封；
电气及控制
电子束蒸发镀膜仪整套控制系统采用PLC+触摸屏控制；
主要控制内容包括：分子泵、机械泵、各个阀门、水压报警等；基片架旋转；电子枪操作及控制；蒸发镀膜过程操作及控制。
气源及水路
气源系统及水路系统
真空专用气源：高压无燥声气体压缩机，为气动阀的开/闭提供动力；进水采用水压继电器控制。带制冷循环水机，控温范围10–25℃，为膜厚仪、磁流体提供稳定的制冷循环水，保证设备稳定运行。
设备机架及控制柜
设备主机架及控制机柜：
机架：碳钢制作，表面喷塑处理，不锈钢面板，支撑真空腔体及真空系统，底下配脚轮，方便移动、定位等
机柜：标准机柜，组装总控制电源、真空系统控制、数显复合真空计、电源等。柜底下配脚轮，方便移动、定位等。
膜厚仪
选用高精度膜厚仪在线监测和控制蒸发速率和膜厚
二、设备主要配置表
序号
部件
名称
参数
数量
生产厂家
1
真空室
不锈钢腔室
Φ500×630mm立式
1套
SHIWEI是维
2
观察窗
Φ100mm
1套
SHIWEI是维
3
屏蔽罩
不锈钢
1套
SHIWEI是维
4
基片架
蒸发旋转基片架
5英寸
1套
SHIWEI是维
5
旋转调速电机
0～25rpm，转速连续可调
1台
SHIWEI是维
6
磁流体轴密封
S-Y（L）-4Z
1个
株洲伟大
7
真空机组
复合分子泵
1600L/S
1台
中科科仪
8
机械泵
14L/S
1台
中科科仪
9
气动挡板阀
GDQ-250,高真空气动挡板阀
1台
SHIWEI是维
10
前级阀旁路阀
GDQ-40，高真空气动挡板阀
2台
SHIWEI是维
11
充气阀
Φ10mm
1个
七星华创
12
波纹管、真空管道
材质：不锈钢
1套
SHIWEI是维
13
密封、连接件及其附件
设备配套
1批
SHIWEI是维
14
电子枪
电子枪坩埚
6穴
1套
金雅克
15
控制、电源
8KW
1台
16
手操箱等配件
1套
17
气路系统
电磁截止阀
Φ10mm
1套
七星华创
18
测量与控制
数显复合真空计
两低一高，包括真空规管及电缆
1台
成都睿宝
19
电气控制系统
PLC+触摸屏控制
1套
SHIWEI是维
20
晶振膜厚仪
SQM-160
1套
Inficon
21
气路
系统
气管、变通、接头
1套
SHIWEI是维
22
空气压缩机
1套
SHIWEI是维
23
水路
系统
水压报警、连锁控制系统
TWPA
1套
SHIWEI是维
24
循环水机
AC-3
1台
SHIWEI是维
25
水管、变通、接嘴、不锈钢球阀
1套
SHIWEI是维
26
其他
主机架
表面喷塑、配脚轮、配门
1台
SHIWEI是维
27
电控柜
表面喷塑、配脚轮、配门
1面
SHIWEI是维
28
易损件
密封圈
1套
SHIWEI是维
三、设备主要优势
实用性
设备集成度高，结构紧凑，占地面积小，功能可靠稳定。
方便性
设备需要拆卸的部分均采用即插即用的方式，接线及安装调试简单，既保证了设备使用方便又保证了设备的整洁性；
设备可与手套箱的对接灵活方便；
设备工作电压为3800V，整机功率小于2KW，对实验室的供电要求低；
稳定性
设备主要零部件采用进口或国内知名品牌，保证了设备的质量及稳定性；
先进性
独立开发的PLC+触摸屏智能操作系统，具有智能控制模式和调试维修模式；
控制系统具备漏气自检与提示功能，当设备漏气时，系统会自动提示设备漏气，以便用户进行检漏，保证设备正常稳定运行；
控制系统具备保养维护提示功能，当设备运行达到一定时长，系统会自动提示设备需要维护保养，以便用户及时进行维护，保证设备正常稳定运行；
控制系统具备通讯故障自检功能，系统对分子泵、溅射电源、真空规、电机、流量计等部件的通讯进行自检，如果某个部件出现故障，可以按照系统中的各部件故障查询办法进行查询，及时确认故障原因，保证设备安全；
控制系统具备数据记录与导出功能，控制系统记录设备的操作记录及镀膜过程数据，可以在系统中查看这些数据，也可以用U盘导出这些数据；
该系统具备三个等级级密码保护功能，不同等级不同使用权限，确保设备
的安全性和数据的保密性；
四、设备安装及工作条件（用户自备）
供电要求
供电：三相四线，AC380V,功率≥20KVA；
实验室要有独立地线：＜3Ω，从设备到地线连接建议采用≥10mm2的扁平铜线；
供水要求
设备需水冷的部件有蒸发电极、膜厚仪探头；
供水：流量≥10L/min水温≤25℃；
安装场地要求
设备占地面积：长×宽:约2200mm×2000mm。
环境要求
环境温度：5～40℃；
环境湿度：＜85%；
室内无大量尘埃，无腐蚀性、易燃易爆气体；
五、售后服务承诺、安装调试验收、培训、文档资料
售后服务
产品质保期为一年；
在质保期内供方将免费维修和更换因设备质量原因造成的零部件损坏；
在质保期外设备零部件的损坏，提供的配件只收成本费；
质保期内或质保期外如设备出现故障，供方接到用户的正式通知（含电话或邮件通知）后，我公司技术人员于48小时内，赶到技术服务现场并开始维修。
安装调试验收
我公司负责将设备初验收合格后，包装好免费运送至客户所在地，经检验后拆封，供方开始安装调试，运输费用及安装调试费用我司负责；
我公司根据客户要求，负责组织专业人员对设备进行安装调试，客户需提供基本的安装条件和专人配合，以确保安装调试的顺利进行；
设备安装调试到位后，双方组织验收，并对验收单进行验收签字；
我公司向客户提供的设备资料包括：设备说明书、验收单、装箱单、产品合格证、备品备件清单；
我公司在客户安装现场进行的设备验收发生的一切费用由我司承担；
培训
我公司派技术工程师对客户人员在设备安装调试时进行技术培训。使需方人员能掌握有关设备的使用、维护，达到能独立进行操作、维护等的目的。
培训地点为客户设备使用现场，培训人数不少于2人，培训时间根据实
际情况而定，培训费用由我司承担；
文档资料
设备操作、维护使用说明书1套；
设备电气原理图1套；
设备出厂合格检验证明。
六、成功案例
部分业绩案例
中科院物理所，中国工程物理研究院，华中科技大学，湖南大学，南京工业大学，南京大学，深圳大学，深圳技术大学，湖南工学院，大连理工大学，青岛大学，南方科技大学，上海科技大学，哈尔滨工业大学（深圳），安徽大学，电子科技大学，吉林大学，天津大学，西湖大学，北京高压科学研究中心，浙江大学，郑州大学，上海台达电子科技，深圳六碳科技，新加坡南洋理工大学，中科院深圳先进院，中科院纳米所，南京工业大学等
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