混合ArF准分子激光器在光刻、缺陷检测等领域意义重大，助力科技飞跃发展！


混合ArF准分子激光器是一种创新技术，它集成了窄线宽固态193纳米激光种子，能够在保持窄线宽的同时增强相干性，从而提高光刻的性能。这种激光器不仅提高了图案精度，还加快了光刻速度。它的光子能量和相干性更高，能够直接加工各种材料，包括碳化合物和固体，同时热影响最小。

中国科学院研究人员最近实现了一项突破，他们利用采用LBO晶体的复杂两级和频生成工艺，制造出了具有窄线宽的193纳米固态DUV激光器。这项技术的平均功率达到了60毫瓦，脉冲持续时间为4.6纳秒，重复率为6千赫兹，线宽约为640兆赫兹，转换效率也相当出色。

混合ArF准分子激光器的突破将推动科技领域的进步，为未来的光刻、缺陷检测等应用提供更高效、更精确的解决方案。

DOI：10.1117/1.