在MEMS工厂中洁净室如何定义？
什么是洁净室?洁净室,又称无尘室，是一个受到高度控制的空间，旨在最大程度地减少尘埃、微生物、化学气体和其他空气污染物的存在，是一个对冷热、噪声、照度、静电、微振都有相当要求的多功能的综合体，以确保MEMS器件的制造过程能够达到所需的洁净度标准。
洁净室的历史？无尘室的概念最初由美国斯坦福大学的物理学家WillisWhitfield在1950年代提出。
然而，最早的无尘室实际应用是在1960年前夕，由于NASA（美国国家航空航天局）和航空航天工业对洁净环境的需求，特别是在航天器装配和测试过程中的需求。
在半导体行业，贝尔实验室（BellLabs）在1960年左右将首个无尘室引入半导体制造过程中。
他们为了降低芯片生产过程中的缺陷率，开始采用无尘室技术。
后来，其他公司如IBM、英特尔（Intel）等也紧随其后，开始建立自己的无尘室生产线。
后来，随着半导体行业的迅速发展，对无尘室的需求不断增加。
在这个阶段，许多半导体制造商开始在全球范围内建立大规模的无尘室生产线，以应对日益严格的洁净度要求。
目前，无尘室的应用逐渐扩展到了其他高技术产业，包括医药、生物技术、医疗器械、光电子、食品加工等领域。洁净室的标准？洁净室（CleanRoom）:具体的功能是控制微粒污染。
Fab厂往往按照ISO14644-1的标准建立，具体分成一级、二级、三级到九级等，等级数越低，颗粒越少。
不同制程对应的洁净度要求？在MEMS厂中，不同工艺车间对应的洁净度等级通常根据ISO14644标准进行分类和评估。光刻车间：光刻车间通常是MEMS制造中最关键的一个工艺步骤，因此对洁净度要求相对较高。一般来说，光刻车间的洁净度等级可能达到ISO14644-1标准中的Class5（百级）或更高级别。
沉积/刻蚀车间：在沉积和蚀刻工艺中，洁净度要求相对较高，以确保沉积和蚀刻过程中不会引入外部杂质。
这些车间通常符合ISO14644-1标准中的Class5（百级）至Class6（千级）级别。
清洗车间：清洗车间用于清洗制造过程中的器件和基板，以去除残留的杂质和化学物质。由于洁净度要求较高，以确保清洁过程不会引入新的污染，因此清洗车间通常符合ISO14644-1标准中的Class5（百级）至Class6（千级）级别。封装车间：封装车间用于对MEMS器件进行封装，保护器件并提供外部连接。封装车间的洁净度要求相对较低，因此可能符合ISO14644-1标准中的Class6（千级）至Class7（万级）。
测试车间：测试车间用于对封装后的MEMS器件进行性能测试和质量控制。由于测试过程不会直接影响器件的制造和封装，因此洁净度要求相对较低，通常符合ISO14644-1标准中的Class7（万级）或更低级别。
